Visokotemperaturni silicijum u prahu za premaze

Visokotemperaturni silikonski prah može se koristiti kao materijal za punjenje u premazima dizajniranim za primjenu na visokim temperaturama. Ovaj tip praha je obično napravljen od ultra čistog silicijuma i dizajniran je da izdrži ekstremne temperature bez degradacije ili gubitka hemijskih svojstava.

Kada se koristi u premazima na visokim temperaturama, silicijum u prahu može pomoći da se poboljša termička stabilnost premaza i otpornost na oksidaciju. Takođe može poboljšati mehaničku čvrstoću i otpornost premaza na habanje, što ga čini idealnim za upotrebu u teškim industrijskim okruženjima.

Silicijum prah se može dodati raznim materijalima za premazivanje, uključujući keramičke premaze, epoksidne premaze i poliuretanske premaze. Ovi premazi se mogu koristiti u nizu aplikacija, kao što su lopatice turbina, izduvni sistemi i industrijske peći.

Hemijska formula: Si

Molekulska težina: 28,09 g/mol

Čistoća: 99,9 posto ili više

Izgled: Sivkasto-crni prah

Veličina čestice: 1-10 mikrona ili prilagođeno

Površina: 10-50 m2/g

Gustina: 2,33 g/cm3

Tačka topljenja: 1,414 stepeni

Tačka ključanja: 3,265 stepeni

Toplotna provodljivost: 149 W/mK

Električna provodljivost: 10^-4 S/cm

-200 mesh: Prosječna veličina čestica je oko 5-10 mikrona, a brzina prosijavanja od 200 mesh je preko 98 posto. Koristi se u kozmetici, premazima i drugim industrijama.

-325 mesh: Prosječna veličina čestica je oko 1-5 mikrona, a brzina prolaska sita od 325 mesh je preko 98 posto. Koristi se u industriji plastike, gume i drugih industrija.

{{0}} mesh: prosječna veličina čestica je oko 0.5-1 mikrona, a brzina prosijavanja od 800 mesh je preko 98 posto. Koristi se u poluvodičkim, visokotemperaturnim premazima i drugim industrijama.

{{0}} mesh: prosječna veličina čestica je oko 0.1-0.5 mikrona, a brzina prosijavanja od 1000 mesh je preko 98 posto. Koristi se u vrhunskoj keramici, premazima i drugim industrijama.

{{0}} mesh: prosječna veličina čestica je oko 0.05-0.1 mikrona, a brzina prosijavanja od 3000 mesh je preko 98 posto. Koristi se u elektronskim materijalima, nanomaterijalima i drugim industrijama.