Analiza performansi tantala

Analiza performansi tantala

Tantal, metalni element, uglavnom postoji u rudi tantalita i u simbiozi je sa niobijem. Tantal je vrlo tvrd i duktilan i može se uvući u filamente kako bi se napravile tanke folije. Njegov koeficijent toplinske ekspanzije je vrlo mali. Tantal ima odlična hemijska svojstva i vrlo je otporan na koroziju. Bez obzira na hladne ili vruće uslove, ne reaguje na hlorovodoničnu kiselinu, koncentrovanu azotnu kiselinu i "kraljevu vodu". Može se koristiti za izradu posuda za isparavanje itd., a može se koristiti i kao elektrode, ispravljači, elektrolizatori i kondenzatori za elektronske cijevi. U medicini se koristi za izradu tankih listova ili niti za popravku oštećenog tkiva.

Tantal takođe ima odlična hemijska svojstva i izuzetno visoku otpornost na koroziju. Bez obzira na hladne ili vruće uslove, ne reaguje na hlorovodoničnu kiselinu, koncentrovanu azotnu kiselinu i "kraljevu vodu".

Međutim, tantal može korodirati u vrućoj koncentrovanoj sumpornoj kiselini. Ispod 150 stepeni, tantal neće korodirati koncentrovana sumporna kiselina. Reagovaće samo na temperaturama višim od ove. U koncentrovanoj sumpornoj kiselini na 175 stepeni tokom jedne godine, debljina korozije će biti 0.0004 mm. Kada se tantal potopi u sumpornu kiselinu na 200 stepeni godinu dana, površinski sloj je oštećen samo za 0,006 mm.

Na 250 stepeni, stopa korozije se povećava, sa debljinom od 0,116 mm godišnje. Na 300 stepeni, stopa korozije je još veća. Nakon godinu dana potapanja, površina je korodirana za 1.368 mm. Stopa korozije u dimećoj sumpornoj kiselini (koja sadrži 15% SO3) je ozbiljnija od one u koncentrovanoj sumpornoj kiselini. Nakon godinu dana uranjanja u ovaj rastvor na 130 stepeni, debljina korodirane površine iznosi 15,6 mm.

Tantal će također biti korodiran fosfornom kiselinom na visokim temperaturama, ali ova reakcija se obično događa iznad 150 stepeni. Nakon godinu dana namakanja u 85% fosforne kiseline na 250 stepeni, površina će biti korodirana za 20 mm. Osim toga, tantal će korodirati fluorovodonična i dušična kiselina. Može se brzo otopiti u miješanoj kiselini, a također se može otopiti u fluorovodoničnoj kiselini.

Ali tantal se više boji jakih alkalija. U otopini kaustične sode s koncentracijom od 110 stupnjeva i koncentracijom od 40%, tantal će se brzo otopiti. U rastvoru kalijum hidroksida iste koncentracije, brzo će se rastvoriti na 100 stepeni. Osim gore navedene situacije, opće anorganske soli općenito ne mogu korodirati tantal ispod 150 stepeni.

Eksperimenti su pokazali da tantal nema uticaja na rastvore alkalija, gasoviti hlor, bromnu vodu, razblaženu sumpornu kiselinu i mnoge druge hemikalije na normalnoj temperaturi. Reaguje samo pod dejstvom fluorovodonične kiseline i vruće koncentrovane sumporne kiseline. Takve situacije su relativno rijetke u metalima.