Uobičajene legure željeza i silicijuma

Glavna legura s visokim sadržajem silicija koja se koristi za izradu silicijumskog čelika i dodavanje silicija u transformatorsko željezo i čelik topljenjem kvarca ili silicijum-dioksida zajedno sa željeznim strugotinama i ugljikom u električnoj peći. Na prodaju su različite vrste, koje sadrže 15-90 posto silicija. Silicijum se kombinuje sa gvožđem, ali legure sa više od oko 30 procenata silicijuma su krte i nestabilne. Silicijum takođe uzrokuje taloženje ugljenika u obliku grafitnih pahuljica, a legure sa visokim sadržajem silicijuma nazivaju se metalnim silicijumom. Jedan proizvođač prodaje 2 razreda koji sadrže 15 posto i 45 posto silicija; dok drugi proizvođač proizvodi 5 vrsta: 15 posto, 50 posto, 75 posto, 85 posto i 90 posto silicijuma, i prodaje sorte koje sadrže 80-95 posto silicija, koristi se u malim dodacima livačke za proizvodnju čelika s visokim sadržajem silicija, kao i u proizvodnji vodonika reakcijom sa kaustičnom sodom. Legure se prodaju u rasutom ili zdrobljenom obliku. Silicijum se obično dodaje čeliku legiranjem sa redukcionim agensima ili drugim legirajućim elementima. FeSiAl koji sadrži 12-15 posto Al je efikasnije sredstvo za redukciju čelika od samog dodatka Al. Takođe se koristi za dodavanje silicijuma u legurama livenog aluminijuma, Union Carbideov selvatz je gvožđe-silicijum-aluminijum koji sadrži vanadijum i cirkonijum. Ova legura djeluje kao redukcijsko sredstvo, topi inkluzije šljake, a također može kontrolirati veličinu zrna čelika. Zemanal kompanije Ohio Ferroalloy Company je smanjena legura koja sadrži po 20 posto silicija, aluminija i mangana. Alcerfe koji proizvodi Vanadium Company sadrži 40 posto silicija, 20 posto aluminija i 40 posto željeza. I aluminij i silicij su u obliku troske koja formira aluminij silikat, a koja se uklanja kada se čelik lijeva. Alcemin je švicarski željezo-silicijum-aluminijum koji sadrži 50 posto aluminijuma. Silicijum aluminijum je međulegura u kojoj se leguri aluminijuma dodaje silicijum, koja ne sadrži gvožđe.