FZ Silicon Wafer Semiconductor

FZ silikonska pločica je vrsta silikonske pločice visoke čistoće koja se obično koristi u industriji poluvodiča. FZ je skraćenica za Float Zone, što je metoda uzgoja monokristalnog silicija.

Tokom procesa FZ, silicijumska šipka je suspendovana vertikalno u visokotemperaturnoj peći, a rastopljena zona se stvara zagrijavanjem malog dijela šipke. Otopljena zona se pomiče duž dužine štapa, a kako se hladi, stvrdnjava se u jedan kristal. Proces se ponavlja više puta dok se čitava dužina štapa ne pretvori u jedan kristal.

FZ silikonske pločice imaju veoma visok nivo čistoće, sa nivoima nečistoća obično manjim od jednog dela na milijardu. Ova čistoća ih čini idealnim za upotrebu u elektronskim uređajima visokih performansi, kao što su mikroprocesori, memorijski čipovi i solarne ćelije. FZ pločice se također koriste u naučnim istraživanjima i proizvodnji senzora i detektora visokih performansi.